采购单位: | 哈尔滨工业大学(深圳) |
项目名称: | 三工艺腔磁控溅射设备 |
预算金额(元): | 7,400,000.000 |
采购品目: | 核技术应用设备 |
采购需求概况: | 设备需配置3套工艺腔室、1套自动传输转接腔、1套Load Lock腔,可实现金属溅射工艺、碳膜溅射工艺以及绝缘材料溅射工艺;腔室最高工艺温度≥1200°C;极限真空≤1.0E-7Pa;压升率≤0.3Pa/h;支持最大晶圆尺寸6英寸;膜厚均匀性≤±3%。 |
联系人: | 简老师 |
联系电话: | 0755-26401954 |
预计采购时间: | 2025-11 |
备注: | 无 |